特許
J-GLOBAL ID:201403052370795938
樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、樹脂組成物を含むレジスト組成物及びレジスト組成物を用いたパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
筒井 大和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-004257
公開番号(公開出願番号):特開2014-136706
出願日: 2013年01月15日
公開日(公表日): 2014年07月28日
要約:
【課題】本発明の課題は、簡便な方法にて、カルボキシル基を含むレジスト材に好適な分子量分布が狭い樹脂組成物、当該樹脂組成物の製造方法、当該樹脂組成物を含むレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。【解決手段】当該課題は、ボラン系ラジカル重合開始剤(A)と、カルボキシル基を含むビニルモノマー(B)と、カルボキシル基を含まないビニルモノマー(C)と、を含む、樹脂組成物により解決される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ボラン系ラジカル重合開始剤(A)と、カルボキシル基を含むビニルモノマー(B)と、カルボキシル基を含まないビニルモノマー(C)と、を含む、樹脂組成物。
IPC (6件):
C08F 220/04
, G03F 7/033
, C08F 220/18
, C08F 212/06
, C08F 4/44
, H01L 21/027
FI (6件):
C08F220/04
, G03F7/033
, C08F220/18
, C08F212/06
, C08F4/44
, H01L21/30 502R
Fターム (29件):
2H125AC34
, 2H125AC63
, 2H125AD14
, 2H125AD24
, 2H125AM13P
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM32P
, 2H125AM58P
, 2H125AN47P
, 2H125AN66P
, 2H125BA17P
, 2H125CC01
, 2H125CC13
, 4J015DA37
, 4J100AB02Q
, 4J100AB04Q
, 4J100AG04Q
, 4J100AJ01P
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ03P
, 4J100AL03Q
, 4J100AM15Q
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA08
, 4J100FA12
, 4J100JA38
引用特許:
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