特許
J-GLOBAL ID：201403076302806804

イオン注入方法およびイオン注入装置

発明者：
二宮 史郎

二宮 史郎 について

, 
香川 唯信

香川 唯信 について

, 
弓山 敏男

弓山 敏男 について

, 
舩井 晃

舩井 晃 について

, 
黒田 隆之

黒田 隆之 について


出願人/特許権者：
株式会社SEN

株式会社SEN について


代理人 (4件)： 森下 賢樹 ,  村田 雄祐 ,  三木 友由 ,  富所 輝観夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-192420
公開番号（公開出願番号）：特開2014-049653
出願日： 2012年08月31日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：
【課題】イオンを注入する過程における放電事象を適切に検出する技術を提供する。【解決手段】イオン注入方法は、イオン源で発生したイオンをウエハまで輸送し、ウエハをイオンビームで照射してイオンを注入するイオン注入方法において、ウエハへイオンを注入する過程で、放電の可能性がある事象を検出可能な検出部を複数用いて、検出した放電の可能性がある事象の有無および該事象がイオンビームに及ぼす影響の度合いに基づいてイオンビームの状態を判断する状態判断工程を含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
イオン源で発生したイオンをウエハまで輸送し、ウエハをイオンビームで照射してイオンを注入するイオン注入方法において、 ウエハへイオンを注入する過程で、放電の可能性がある事象を検出可能な検出部を複数用いて、検出した放電の可能性がある事象の有無および該事象がイオンビームに及ぼす影響の度合いに基づいて前記イオンビームの状態を判断する状態判断工程を含むことを特徴とするイオン注入方法。
IPC (2件)：
H01L 21/265 ,  H01J 37/317
FI (3件)：
H01L21/265 T ,  H01J37/317 C ,  H01L21/265 603Z
Fターム (5件)：
5C034CD01 ,  5C034CD02 ,  5C034CD04 ,  5C034CD07 ,  5C034CD08
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM