特許
J-GLOBAL ID：201403083825490670
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
押野 宏
, 大島 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-038329
公開番号（公開出願番号）：特開2014-206729
出願日： 2014年02月28日
公開日（公表日）： 2014年10月30日
要約：
【課題】ウェットエッチングにより位相効果を有効に発現する断面形状に形成可能な表示装置製造用の位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】透明基板21と、透明基板21の主表面上に形成された、露光光に含まれる代表波長の光の位相を略180度変える性質を有しかつクロム系材料から構成される光半透過膜22と、この光半透過膜22上に形成された、金属シリサイド系材料から構成されるエッチングマスク膜23とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板と、
前記透明基板の主表面上に形成された、露光光に含まれる代表波長の光の位相を略180度変える性質を有しかつクロム系材料から構成される光半透過膜と、
該光半透過膜上に形成された、金属シリサイド系材料から構成されるエッチングマスク膜と
を備えることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/32
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB15
, 2H095BB25
, 2H095BB27
, 2H095BB36
, 2H095BC05
, 2H095BC24
