特許
J-GLOBAL ID：200903034688098260
マスクブランク及びフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-094482
公開番号（公開出願番号）：特開2007-271720
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】今後のFPD用大型マスクブランク及びマスクの高品質化の障害を抑制したマスクブランク及びフォトマスクを提供する。【解決手段】FPDデバイスを製造するためのマスクブランク10であって、透光性の基板12と、基板12上に形成された、i線からg線に渡る波長領域の光に対して透光性の透光性膜14と、透光性膜14上に形成された、金属と珪素とを含む金属シリサイド系材料で形成された遮光膜16とを備え、遮光膜16は、ウエットエッチングによりパターニングされる膜であり、透光性膜14は、遮光膜16とエッチング選択性を有する材料の膜である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
FPDデバイスを製造するためのマスクブランクであって、
透光性の基板と、
前記基板上に形成された、i線からg線に渡る波長領域の光に対して透光性の透光性膜と、
前記透光性膜上に形成された半透光膜又は遮光膜であり、金属と珪素とを含む金属シリサイド系材料で形成された金属シリサイド系膜と
を備え、
前記金属シリサイド系膜は、ウエットエッチングによりパターニングされる膜であり、
前記透光性膜は、前記金属シリサイド系膜とエッチング選択性を有する材料の膜であることを特徴とするマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 G
, H01L21/30 502P
2H095BA02
, 2H095BB14
, 2H095BC05
, 2H095BC24
出願人引用 (5件)
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特開昭62-218585号公報
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特公平3-66656号公報
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特公平4-35743号公報
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審査官引用 (17件)
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