多孔構造体、多孔構造体の製造方法およびガスセンサ

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：速水進治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-045669
公開番号（公開出願番号）：特開2014-173947
出願日： 2013年03月07日
公開日（公表日）： 2014年09月22日
要約：

【課題】基板上に流体の拡散性に優れた多孔体を設けた多孔構造体を提供する。【解決手段】本発明の多孔構造体100は、基板101と、基板101上に設けられた多孔体107と、を備える。基板101上に設けられた多孔体107は、隔壁部103と、隔壁部103に囲まれた空隙部105とを有する、逆オパール型のハニカム構造である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板上に設けられた多孔体と、を備えた多孔構造体であって、前記基板上に設けられた前記多孔体は、隔壁部と、前記隔壁部に囲まれた空隙部とを有する、逆オパール型のハニカム構造である、多孔構造体。

IPC (2件)：

G01N 27/12 , H01L 29/06

FI (2件)：

G01N27/12 B , H01L29/06 601N

Fターム (27件)：

2G046AA01 , 2G046AA24 , 2G046BA08 , 2G046BA09 , 2G046BB04 , 2G046BE01 , 2G046EA04 , 2G046FA01 , 2G046FB02 , 2G046FE02 , 2G046FE03 , 2G046FE09 , 2G046FE10 , 2G046FE11 , 2G046FE12 , 2G046FE15 , 2G046FE20 , 2G046FE21 , 2G046FE22 , 2G046FE25 , 2G046FE29 , 2G046FE31 , 2G046FE38 , 2G046FE39 , 2G046FE44 , 2G046FE46 , 2G046FE48

引用特許：

審査官引用 (9件)

薄膜ガスセンサ
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-197246 出願人：富士電機機器制御株式会社
ガスセンサの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-192518 出願人：フイガロ技研株式会社
特開平3-233350

全件表示

引用文献：

審査官引用 (4件)

全件表示

前のページに戻る