特許
J-GLOBAL ID：201403084837690603
成膜装置および膜の製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
古部 次郎
, 千田 武
, 加藤 謹矢
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-285160
公開番号（公開出願番号）：特開2014-127670
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
要約：
【課題】膜の形成における原料ガスの使用効率を向上させる。【解決手段】基板を収容する収容室100の内部空間において、基板の側方からX方向に沿って原料ガスGsを供給するとともに、基板よりもX方向の上流側から原料ガスGsの上方からX方向に沿って第1ブロックガスGb1を供給し、さらに、基板Sの直上から-Z方向に沿って第3ブロックガスGb3を供給する。これにより、基板SよりもX方向の上流側において、原料ガスGsは、同じX方向に沿って移動する第1ブロックガスGb1によってZ方向への浮き上がりが抑制され、さらに、基板S上において、原料ガスGsは、-Z方向に沿って移動する第3ブロックガスGb3により、第1ブロックガスGb1とともにZ方向への浮き上がりが抑制される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
内部空間を有し、当該内部空間における下方側において膜の形成面が上方を向くように基板を収容する収容室と、
前記内部空間に収容された前記基板を加熱する加熱手段と、
前記内部空間に、前記基板の側方から当該基板に向かう第1方向に沿って、前記膜の原料を含む原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
前記内部空間に、前記原料ガス供給手段にて供給された前記原料ガスの上方から前記第1方向に沿って、当該原料ガスの上方への移動を抑制するブロックガスを供給するブロックガス供給手段と、
前記内部空間において前記基板上を移動する前記原料ガスと当該原料ガス上を移動する前記ブロックガスとに対し、上方から下方に向かう第2方向に沿って、当該原料ガスの上方への移動を抑制する他のブロックガスを供給する他のブロックガス供給手段と
を含む成膜装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/455
4K030AA06
, 4K030AA10
, 4K030AA17
, 4K030AA20
, 4K030BA37
, 4K030BB02
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA06
, 4K030FA10
, 4K030GA06
, 4K030JA10
, 4K030JA12
, 4K030KA12
, 4K030KA23
, 4K030KA47
, 5F045AA03
, 5F045AB06
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045AD18
, 5F045AE25
, 5F045AF02
, 5F045DP04
, 5F045DP28
, 5F045EE20
, 5F045EF14
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
