感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (14件)：蔵田昌俊 , 福原淑弘 , 中村誠 , 野河信久 , 白根俊郎 , 峰隆司 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-232271
公開番号（公開出願番号）：特開2014-006491
出願日： 2012年10月19日
公開日（公表日）： 2014年01月16日
要約：

【課題】露光ラチチュード及びLWRなどのパターンラフネスに優れ、経時によるパーティクル発生が少なく、液浸露光の場合に発生酸の液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、 (A)下記一般式(1)で表される活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物と、 (B)樹脂とを含有する。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物と、 (B)樹脂とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物:

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C08F 20/00

FI (5件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , C08F20/00 510

Fターム (66件)：

2H125AF13P , 2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF19P , 2H125AF20P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH03 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM12P , 2H125AM22N , 2H125AM22P , 2H125AM23N , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM32P , 2H125AM66P , 2H125AM91N , 2H125AM91P , 2H125AM94N , 2H125AM94P , 2H125AM99N , 2H125AM99P , 2H125AN10N , 2H125AN11N , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125BA01N , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 2H125FA23

引用特許：

審査官引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-083425 出願人：富士写真フイルム株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-228619 出願人：東京応化工業株式会社
新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-257492 出願人：東京応化工業株式会社

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