特許
J-GLOBAL ID：201403098691374578

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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山口 訓史

山口 訓史 について

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鈴木 雄喜

鈴木 雄喜 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-132413
公開番号（公開出願番号）：特開2014-029507
出願日： 2013年06月25日
公開日（公表日）： 2014年02月13日
要約：
【課題】高解像度のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、式(I)で表される酸発生剤及び酸不安定基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、X2は置換基を有していてもよいアルカンジイル基、該基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;R4は置換基を有していてもよい炭化水素基、該基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、式(I)で表される酸発生剤及び酸不安定基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  C08F 220/18 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  C08F220/18 ,  H01L21/30 502R
Fターム (55件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  2H125FA23 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03T ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09T ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC07 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (8件)
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