特許
J-GLOBAL ID：201403099705205258
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-003978
公開番号（公開出願番号）：特開2014-170219
出願日： 2014年01月14日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
要約：
【課題】優れた形状及び解像度のレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂(A1)、樹脂(A2)、樹脂(A3)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。樹脂(A1):解離性基を有する(メタ)アクリル系の特定構造単位を含む樹脂、樹脂(A2):解離性基を有するスチレン系の特定構造単位及びヒドロキシスチレン系の構造単位を含む樹脂、樹脂(A3):式(a5-1)で表される構造単位を含む樹脂。[式(a5-1)中、Ra50は、水素原子又はメチル基を表す。Ra51は、炭素数1〜18の飽和炭化水素基を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
樹脂(A1)、樹脂(A2)、樹脂(A3)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
樹脂(A1):式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造単位を含む樹脂
樹脂(A2):式(a1-4)で表される構造単位及び式(a2-0)で表される構造単位を含む樹脂(ただし、式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位を含まない。)
樹脂(A3):式(a5-1)で表される構造単位を含む樹脂(ただし、式(a1-0)で表される構造単位、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位を含まず、かつ、式(a1-4)で表される構造単位及び式(a2-0)で表される構造単位の少なくとも一方を含まない。)
IPC (9件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/038
, C08F 8/00
, C08L 27/22
, C08L 33/14
, C08L 33/06
, C08K 5/00
, C08F 8/12
G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, C08F8/00
, C08L27/22
, C08L33/14
, C08L33/06
, C08K5/00
, C08F8/12
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF55P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH14
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH29
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ45X
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM23P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN54P
, 2H125AN67P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB08
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA05
, 4J002BC12X
, 4J002BG03W
, 4J002BG07Y
, 4J002EV236
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J100AB01P
, 4J100AB01Q
, 4J100AB01R
, 4J100BA03P
, 4J100BA04H
, 4J100BA09H
, 4J100CA01
, 4J100HA08
, 4J100HA15
, 4J100HA19
, 4J100HA61
, 4J100HC01
, 4J100HC05
, 4J100HC71
, 4J100HD16
, 4J100HE14
, 4J100HE22
, 4J100HG12
, 4J100JA38
