ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-188215
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010748
出願日： 2005年06月28日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、100nm以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、且つ、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B1)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び(B2)(a)アルカリ可溶性基及び(b)アルカリの作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基から選ばれる少なくとも1種類の基を有し、かつ、酸の作用により分解する基を有さない樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B1)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び (B2)(a)アルカリ可溶性基及び(b)アルカリの作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基から選ばれる少なくとも1種類の基を有し、かつ、酸の作用により分解する基を有さない樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (14件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB42

引用特許：

出願人引用 (6件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-050264 出願人：富士通株式会社
米国特許第6388101B号明細書
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-255167 出願人：信越化学工業株式会社

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審査官引用 (17件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-307851 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-088358 出願人：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-268112 出願人：日本合成ゴム株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

半導体プロセス教本, 20031010, 第三版, 159頁
はじめての半導体リソグラフィー技術, 20030630, 初版, 250頁

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