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J-GLOBAL ID：201502201851394619   整理番号：15A1061824

極端紫外線リソグラフィで光子によって運ばれた情報とエネルギーの関係 感度増強の観点からの考察

Relationship between information and energy carried by photons in extreme ultraviolet lithography: Consideration from the viewpoint of sensitivity enhancement

著者 (5件)： FUJII Shinya (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMOTO Kazumasa (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SANTILLAN Julius Joseph (EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN) ,  ITANI Toshiro (EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54  号： 8  ページ： 086502.1-086502.5  発行年： 2015年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィにおける光子の役割は,像のために情報とエネルギーを転送することです。光子によって転送された情報に従ってレジストパターンは作製されます。レジストの溶解度を変えるのに必要である化学反応を引き起こすのにエネルギーが使われる。本研究では,極端紫外線リソグラフィの光子によって運ばれた情報とエネルギーとの関係を感度増強の観点から調査した。レジスト性能(情報かエネルギー)を制限している要素はレジスト要件と電位性能間の関係に依存していた。制限因子の決定は高感度レジスト材料を設計するのにおいて不可欠です。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *感度 ,  *レジスト ,  必要条件 ,  エネルギー
準シソーラス用語： 極端紫外線リソグラフィー ,  制限因子

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (34件)：

• H. Kinoshita, K. Kurihara, Y. Ishii, and Y. Torii, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1648 (1989).
• H. Ito and C. G. Willson, Polym. Eng. Sci. 23, 1012 (1983).
• H. Ito, Microlithography/Molecular Imprinting (Springer, Heidelberg, 2005) Advances in Polymer Science Series, Vol. 172, p. 37.
• M. D. Smith, J. Biafore, and C. Fang, Proc. SPIE 8682, 868203 (2013).
• G. M. Gallatin, P. P. Naulleau, and R. L. Brainard, Proc. SPIE 8322, 83221C (2012).

タイトルに関連する用語 (5件)： 極端紫外線リソグラフィ ,  光子 ,  エネルギー ,  感度増 ,  観点