特許
J-GLOBAL ID:201503001049420845
プラズマ処理装置及び方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
徳田 佳昭
, 野村 幸一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-153465
公開番号(公開出願番号):特開2015-026435
出願日: 2013年07月24日
公開日(公表日): 2015年02月05日
要約:
【課題】熱プラズマの高温部を基材に直接曝露するプラズマ処理装置及び方法において、被処理物の加熱性能を評価することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。【解決手段】温度測定板1上にクロム膜2が形成されている。誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、導体製のコイル3が第一セラミックスブロック4及び第二セラミックスブロック5の近傍に配置される。プラズマガス供給配管10よりプラズマガスマニホールド9に供給されたガスは、プラズマガス供給穴11(貫通穴)を介して、長尺チャンバ7に導入される。クロム膜2と温度測定板1の界面から放射される光をレンズ12にて集め、放射温度計13まで光ファイバで導くことで、温度測定板1の温度を測定することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
スリット状の開口部を備える長尺チャンバと、前記長尺チャンバ内にガスを供給するガス導入口と、前記長尺チャンバ内に高周波電磁界を発生させるコイルと、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源と、基材を保持する基材載置部と備えたプラズマ処理装置において、
前記長尺チャンバの長手方向と前記開口部の長手方向とは平行に配置され、前記開口部の長手方向に対して垂直な向きに、前記長尺チャンバと前記基材とを相対的に移動可能とする移動機構を備え、不透明薄膜を形成した透明薄板を備え、前記不透明薄膜とは反対の側から、前記不透明薄膜と前記透明薄板の界面から放射される光を受光する放射温度計を備えたこと、
を特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (12件):
H05H 1/30
, H01L 21/20
, H01L 21/324
, H01L 21/22
, H05H 1/24
, H01L 21/31
, H01L 21/205
, H01L 21/306
, C23C 16/513
, C23C 16/44
, B08B 7/00
, H01L 21/304
FI (12件):
H05H1/30
, H01L21/20
, H01L21/324 P
, H01L21/22 E
, H05H1/24
, H01L21/31 C
, H01L21/205
, H01L21/302 101E
, C23C16/513
, C23C16/44 B
, B08B7/00
, H01L21/304 645C
Fターム (72件):
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB14
, 3B116BB82
, 3B116BB88
, 3B116BB89
, 3B116BC01
, 4K030AA06
, 4K030AA10
, 4K030AA14
, 4K030BA29
, 4K030BA44
, 4K030CA06
, 4K030FA01
, 4K030HA13
, 4K030KA39
, 4K030LA16
, 4K030LA18
, 5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB18
, 5F004BB32
, 5F004CA05
, 5F004DA18
, 5F004DB01
, 5F045AA08
, 5F045AB32
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045AC11
, 5F045AE29
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045DQ12
, 5F045EF01
, 5F045EH04
, 5F045EH11
, 5F045GB05
, 5F152AA17
, 5F152BB02
, 5F152BB09
, 5F152CC02
, 5F152CE05
, 5F152EE15
, 5F152EE16
, 5F152FF20
, 5F152FG23
, 5F152FH02
, 5F152FH03
, 5F157AA42
, 5F157AA63
, 5F157AA93
, 5F157AB02
, 5F157AB12
, 5F157AB33
, 5F157AC01
, 5F157AC13
, 5F157BB64
, 5F157BG33
, 5F157BG35
, 5F157BG36
, 5F157BG37
, 5F157BG76
, 5F157BG85
, 5F157BG94
, 5F157CD33
, 5F157CE03
, 5F157CF42
, 5F157DB02
, 5F157DB14
, 5F157DB46
引用特許:
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る