特許
J-GLOBAL ID：201503004536937292
低温プラズマ中の粒子を分析するための方法およびシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鎌田 耕一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-533677
公開番号（公開出願番号）：特表2015-530586
出願日： 2013年09月27日
公開日（公表日）： 2015年10月15日
要約：
本発明は、粒子、特に直径が1μm未満である粒子、を分析する方法であって、・ベース圧力の低温プラズマ(45)中にレーザーショットを発射する工程と、・レーザーショットを成因とするプラズマから放出された光の発光スペクトルを光学的な分光装置(60)を用いて取得する工程であって、取得される各スペクトルについての取得期間がレーザーショットの発射後100ns経過するまでに開始される工程と、・発光スペクトルに基づいてプラズマ中に存在する粒子を分析する工程と、を備える方法と、上記の方法を実施することによって粒子を検出および/または分析するためのシステムに関する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
粒子、特に直径が1μm未満である粒子、を分析するための分析方法であって、
a)10mbar未満、好ましくは1mbar未満の圧力の低温プラズマ(45)を提供する工程と、
b)前記低温プラズマ中にレーザーショットを発射する工程と、
c)前記レーザーショットを成因とする前記プラズマから放出された光の発光スペクトルを光学的な分光装置(60)を用いて取得する工程であって、取得される各スペクトルについての取得期間が前記レーザーショットの発射後100ns経過するまでに開始される工程と、
d)前記発光スペクトルに基づいて前記プラズマ中に存在する前記粒子を分析する工程と、を備えることを特徴とする分析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2G043AA01
, 2G043CA02
, 2G043EA08
, 2G043EA10
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043JA02
, 2G043KA01
, 2G043KA03
, 2G043KA09
, 2G043LA01
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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