特許
J-GLOBAL ID:201503007030066100
廃液処理方法および廃液処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
服部 雅紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-010573
公開番号(公開出願番号):特開2015-058428
出願日: 2014年01月23日
公開日(公表日): 2015年03月30日
要約:
【課題】単一反応槽を利用可能なTMAHおよびアンモニア性窒素を含む廃液を処理する廃液処理方法および廃液処理装置を提供する。【解決手段】単一反応槽内にTMAHの含まないアンモニア性窒素含有溶液を導入する。反応槽内において微生物を利用してアンモニア性窒素含有溶液に対して脱窒作用を行う。前記微生物は硝化菌および独立栄養性脱硝菌を含む。反応槽は、溶存酸素濃度が0.1〜0.5mg/Lであり、PH値が7〜8である。脱窒効率が安定となった後、TMAHを当該アンモニア性窒素含有溶液に混合し、TMAHの添加濃度を60mg/Lより低くする。脱窒効率が再び安定となった後に、TMAHの添加濃度を漸次的に高める。【選択図】図1
請求項(抜粋):
水酸化テトラメチルアンモニウム及びアンモニア性窒素を含有する廃液を処理する廃液処理方法であって、
溶存酸素濃度が0.1〜0.5mg/LでありpH値が7〜8である単一の反応槽内に、水酸化テトラメチルアンモニウムを含有しないアンモニア性窒素含有溶液を導入し、硝化菌及び独立栄養性脱硝菌を含む微生物を利用してアンモニア性窒素含有溶液に対して脱窒を行うステップと、
脱窒効率が安定した後に、前記反応槽内に、濃度が60mg/Lより低い水酸化テトラメチルアンモニウムを混入するステップと、
脱窒効率が再び安定した後、水酸化テトラメチルアンモニウムの添加濃度を高くする調整を複数回行うステップと、を含むことを特徴とする廃液処理方法。
IPC (1件):
FI (4件):
C02F3/34 101A
, C02F3/34 101C
, C02F3/34 101D
, C02F3/34 101B
Fターム (5件):
4D040BB08
, 4D040BB42
, 4D040BB67
, 4D040BB82
, 4D040BB91
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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“USE OF TWO-STAGE BIOLOGICAL PROCESS IN TREATING THIN FILMTRANSISTOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY WASTEWA
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