特許
J-GLOBAL ID：201503008158726585
プラズマ処理装置、および高周波発生器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人アイミー国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-500614
特許番号：特許第5817906号
出願日： 2013年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】プラズマを用いて被処理対象物に処理を行うプラズマ処理装置であって、
その内部でプラズマによる処理を行う処理容器と、
前記処理容器外に配置されて高周波を発生させる高周波発生器を含み、前記高周波発生器により発生させた高周波を用いて前記処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ発生機構とを備え、
前記高周波発生器は、高周波を発振する高周波発振器と、前記高周波発振器が発振する基本周波数と同じ周波数であって異周波成分を減少させた信号を前記高周波発振器に注入する注入手段とを含み、
前記高周波発生器は、前記高周波発振器から負荷側に位置する整合器へ周波数信号を一向に伝送するアイソレーターと、前記高周波発振器および前記アイソレーターの間に設けられ前記高周波を前記アイソレーター側に伝播する導波路とを含み、
前記注入手段は、前記導波路に分岐部を設けた分岐回路を含み、
前記分岐回路は、前記分岐部から分岐して前記分岐回路内に入力された高周波を用いて、前記高周波発振器が発振する基本周波数と同じ周波数であって異周波成分を減少させた信号を形成する信号形成手段を含む、プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/511 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
H05H 1/46 B
, H05H 1/46 R
, H01L 21/302 101 D
, C23C 16/511
, H01L 21/205
