堆積チャンバ用のエッジリング

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩 , 近藤直樹 , 鈴木信彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-504579
公開番号（公開出願番号）：特表2015-519472
出願日： 2013年03月13日
公開日（公表日）： 2015年07月09日
要約：

単一のチャンバ内での基板の材料および熱処理のための装置および方法が、開示される。1つの実施形態では、エッジリングが提供される。エッジリングは、内側周囲端面、第1の表面、および第1の表面とは反対側の第2の表面を有する環状本体と、第2の表面からほぼ直角に延びる第1の隆起部材と、第1の隆起部材に隣接する第2の表面から延び、第1のくぼみによって第1の隆起部材から分離された第2の隆起部材と、第2の隆起部材に隣接する第2の表面から延び、第2のくぼみによって分離された第3の隆起部材であって、第2のくぼみが、第1の表面の反射値とは異なる反射値を有する傾斜表面を含む、第3の隆起部材とを含む。

請求項（抜粋）：

内側周囲端面、第1の表面、および前記第1の表面とは反対側の第2の表面を有する環状本体と、前記第2の表面からほぼ直角に延びる第1の隆起部材と、前記第1の隆起部材に隣接する前記第2の表面から延び、第1のくぼみによって前記第1の隆起部材から分離された第2の隆起部材と、前記第2の隆起部材に隣接する前記第2の表面から延び、第2のくぼみによって分離された第3の隆起部材であって、前記第2のくぼみが、前記第1の表面の反射値とは異なる反射値を有する傾斜表面を含み、前記傾斜表面は、光エネルギーを径方向内向きに向けるように構成される、第3の隆起部材とを備えるエッジリング。

IPC (5件)：

C23C 14/50 , C23C 16/46 , H01L 21/31 , H01L 21/26 , H01L 21/285

FI (5件)：

C23C14/50 E , C23C16/46 , H01L21/31 D , H01L21/26 Q , H01L21/285 S

Fターム (25件)：

4K029AA06 , 4K029AA24 , 4K029BD02 , 4K029CA05 , 4K029DA08 , 4K029DC39 , 4K029EA08 , 4K030KA26 , 4K030KA45 , 4K030KA46 , 4K030KA47 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB14 , 4M104BB17 , 4M104BB18 , 4M104BB32 , 4M104BB33 , 4M104DD37 , 4M104DD39 , 4M104DD80 , 4M104DD84 , 5F045AA19 , 5F045AB31 , 5F045HA16

引用特許：

審査官引用 (7件)

ウェハ処理堆積物遮蔽構成材
公報種別：公表公報出願番号：特願2011-505129 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
基板処理装置用のベアリングカバー、基板処理装置および熱処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-312367 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
傾斜付き基板支持具
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-302942 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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