ジルコニア粒子を含むCMP組成物および使用方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 小林良博 , 出野知 , 永坂友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-514101
公開番号（公開出願番号）：特表2015-522669
出願日： 2013年05月21日
公開日（公表日）： 2015年08月06日
要約：

本発明は、ジルコニア粒子、ジルコニア粒子に付着する改質剤、有機酸および水を含む化学機械研磨組成物、ならびに基材を研磨するためにそのような研磨組成物を用いる方法、およびジルコニア粒子、有機酸、酸化剤および水を含む研磨組成物を用いて、金属および酸化物系誘電体材料を含む基材を研磨する方法を提供する。

請求項（抜粋）：

(a)ジルコニア粒子; (b)該ジルコニア粒子に付着する改質剤; (c)アミノ酸およびアルキルカルボン酸の少なくとも1種を含む有機酸;および、 (d)水、を含んでなる化学機械研磨(CMP)組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 , H01L 21/304 , B24B 37/00

FI (4件)：

C09K3/14 550D , H01L21/304 622D , B24B37/00 H , C09K3/14 550Z

Fターム (29件)：

3C158AA07 , 3C158CA04 , 3C158CA05 , 3C158CB03 , 3C158DA02 , 3C158DA12 , 3C158DA17 , 3C158EA11 , 3C158EB01 , 3C158ED01 , 3C158ED08 , 3C158ED23 , 3C158ED26 , 3C158ED28 , 5F057AA14 , 5F057AA17 , 5F057BA11 , 5F057BA21 , 5F057BB03 , 5F057BB16 , 5F057BB23 , 5F057CA12 , 5F057DA03 , 5F057EA01 , 5F057EA06 , 5F057EA21 , 5F057EA22 , 5F057EA29 , 5F057EA32

引用特許：

審査官引用 (5件)

研磨液
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-250445 出願人：富士フイルム株式会社
銅/ルテニウム基材のCMP
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-537751 出願人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション
半導体基板研磨用組成物、半導体配線基板およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-365429 出願人：昭和電工株式会社

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