特許
J-GLOBAL ID：201503009333535653
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
日向寺 雅彦
, 小崎 純一
, 市川 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-199457
公開番号（公開出願番号）：特開2015-065378
出願日： 2013年09月26日
公開日（公表日）： 2015年04月09日
要約：
【課題】被処理物の載置側の形状寸法によるプラズマ処理への影響を抑制することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供することである。【解決手段】実施形態に係るプラズマ処理装置は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、前記処理容器の内部に設けられ、被処理物を載置する載置部と、前記処理容器の内部のプラズマを発生させる領域に電磁エネルギーを供給するプラズマ発生部と、前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、前記載置部の寸法に関する情報、および前記被処理物の寸法に関する情報の少なくともいずれかとから被処理領域における合成静電容量を演算し、前記演算された合成静電容量に基づいて、プラズマ処理におけるプロセス条件を演算する演算部と、前記演算されたプロセス条件に基づいて、前記プラズマ処理の制御を行う制御部と、を備えている。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、
前記処理容器の内部に設けられ、被処理物を載置する載置部と、
前記処理容器の内部のプラズマを発生させる領域に電磁エネルギーを供給するプラズマ発生部と、
前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L21/302 105A
, H05H1/46 B
, H05H1/46 M
, H05H1/46 A
, H05H1/46 R
5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB21
, 5F004CA04
, 5F004CA06
, 5F004CA08
, 5F004DA01
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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