特許
J-GLOBAL ID：201503019264707434
塗布膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-124767
公開番号（公開出願番号）：特開2015-000356
出願日： 2013年06月13日
公開日（公表日）： 2015年01月05日
要約：
【課題】製造コストを増加を抑制しつつ、従来の形成方法では形成困難であった、厚い膜厚の塗布膜を形成可能とする。【解決手段】第1の回転数(回転数R1)に応じて基板を回転することによって、上記基板上に滴下された塗布液の膜厚を均一にする膜厚均一化工程(S164)と、第2の回転数(回転数R2)および回転時間(t3)に応じて上記基板を回転することによって、形成される塗布膜の膜厚を決定する膜厚決定工程(S166)とを含み、回転時間(t3)は、少なくとも上記塗布膜の膜厚が収束する時間に設定されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に塗布液を滴下する滴下工程と、
第1の回転数に応じて上記基板を回転することによって、上記基板上に滴下された上記塗布液の膜厚を均一にする膜厚均一化工程と、
第2の回転数および回転時間に応じて上記基板を回転することによって、形成される塗布膜の膜厚を決定する膜厚決定工程と、を含み、
上記回転時間は、上記基板が上記第2の回転数で回転している際に、少なくとも上記塗布膜の膜厚が収束する時間に設定されていることを特徴とする塗布膜の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B05D1/40 A
, H01L21/30 564D
4D075AC64
, 4D075AC94
, 4D075AC96
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB14
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA45
, 4D075EB39
, 5F146JA13
