特許
J-GLOBAL ID：201503022032624800
統合された膜積層及びUV露光システム、及びこれを用いる方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-556559
公開番号（公開出願番号）：特表2015-509612
出願日： 2013年01月22日
公開日（公表日）： 2015年03月30日
要約：
刷版製造システムにおいて感光性印刷ブランクを化学線に露光するための統合された積層及び露光装置、及びこれを用いる方法が開示される。感光性印刷ブランクは、バッキング層と、前記バッキング層上に配置された少なくとも1つの光硬化性層と、前記少なくとも1つの光硬化性層上に配置されたレーザアブレーション可能なマスク層とを含み、ここで、前記レーザアブレーション可能なマスク層は、前記レーザアブレーション可能なマスク層にその場ネガを作成するためにレーザアブレーションされる。露光装置は、(a)前記レーザアブレーションされたマスク層の上部に酸素バリア層を積層するための積層装置と、(b)コンベアと、(c)前記少なくとも1つの光硬化性層を化学線に像様露光させるための第1の露光装置と、(d)前記少なくとも1つの光硬化性層を、前記バッキング層を介して化学線に露光するための第2の露光装置と、を含む。
請求項（抜粋）：
刷版製造工程において感光性印刷ブランクを化学線に露光する方法であって、前記感光性印刷ブランクは、バッキング層と、前記バッキング層上に配置された少なくとも1つの光硬化性層と、前記少なくとも1つの光硬化性層上に配置されたレーザアブレーション可能なマスク層とを含み、前記レーザアブレーション可能なマスク層は、前記レーザアブレーション可能なマスク層にその場ネガを作成するためにレーザアブレーションされ、
a)前記レーザアブレーションされたマスク層の上部に熱及び圧力を用いて酸素バリア層を積層する工程と、
b)前記感光性印刷ブランクを露光ユニットへと搬送する工程であって、前記露光ユニットは、前記レーザアブレーションされたマスク層によって覆われていない前記少なくとも1つの光硬化性層の部分を架橋及び硬化させ、前記少なくとも1つの光硬化性層中に架橋された床層を作成することが可能である工程と、
c)(i)前記少なくとも1つの光硬化性層を、前記レーザアブレーションされたマスク層及び前記酸素バリア層を介して第1の化学線源からの化学線に露光し、前記マスク層によって覆われていない前記少なくとも1つの光硬化性層の部分を選択的に架橋及び硬化させる工程、及び
(ii)前記少なくとも1つの光硬化性層を、前記バッキング層を介して第2の化学線源からの化学線に露光し、前記光硬化性層中に架橋された床層を作成する工程を少なくとも同時に行う工程と、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (7件)：
G03F 7/20
, G03F 7/095
, G03F 7/38
, G03F 7/16
, G03F 7/11
, G03F 7/09
, G03F 7/00
G03F7/20 511
, G03F7/095
, G03F7/38 501
, G03F7/16
, G03F7/38 511
, G03F7/11 501
, G03F7/09 501
, G03F7/00 502
2H097AA01
, 2H097AA03
, 2H097BA10
, 2H097BB10
, 2H097CA12
, 2H097CA17
, 2H097DB07
, 2H097FA02
, 2H097LA02
, 2H125CA02
, 2H125CB01
, 2H125CB02
, 2H125CC01
, 2H125CC29
, 2H125DA06
, 2H125DA12
, 2H125DA33
, 2H125EA19N
, 2H125FA02
, 2H196AA02
, 2H196BA01
, 2H196BA09
, 2H196DA04
, 2H196EA02
, 2H196EA04
, 2H196EA14
, 2H196EA16
, 2H196EA23
, 2H196FA05
, 2H196GA08
, 2H196JA02
, 2H196JA03
, 2H196KA04
, 2H196KA06
, 2H196KA23
