特許
J-GLOBAL ID：201503044725686730

酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のCMP組成物

発明者：
ブライアン レイス

ブライアン レイス について

, 
グレン ホワイトナー

グレン ホワイトナー について


出願人/特許権者：
キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  永坂 友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-500597
公開番号（公開出願番号）：特表2015-516476
出願日： 2013年03月14日
公開日（公表日）： 2015年06月11日
要約：
本発明は、セリア研磨剤、1種もしくは2種以上のノニオン性ポリマー、随意選択的な1種もしくは2種以上のホスホン酸、随意選択的な1種もしくは2種以上の窒素含有両性イオン性化合物、随意選択的なスルホン酸共重合体、随意選択的なアニオン性共重合体、第四級アミンを含む、随意選択的な1種もしくは2種以上のポリマー、研磨組成物のpHを調整する、随意選択的な1種もしくは2種以上の化合物、水、および随意選択的な添加剤を含む化学機械研磨組成物を提供する。本発明は、基材を、本発明の化学機械研磨組成物で化学機械研磨する方法を更に提供する。典型的には、基材は、酸化ケイ素、窒化ケイ素および/またはポリシリコンを含んでいる。
請求項（抜粋）：
下記の(a)〜(i)から本質的になる化学機械研磨組成物。 (a)セリア研磨剤、 (b)ポリアルキレングリコール、ポリエーテルアミン、ポリエチレンオキシド/ポリプロピレンオキシド共重合体、ポリアルキルアミド、ポリビニルピロリドン、シロキサンポリアルキレンオキシド共重合体、疎水性に変性されたポリアクリレート共重合体、親水性ノニオン性ポリマー、多糖、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる1種もしくは2種以上のノニオン性ポリマー、 (c)1種もしくは2種以上の窒素含有両性イオン性化合物、 (d)随意選択的な1種もしくは2種以上のホスホン酸、 (e)随意選択的な1種もしくは2種以上のスルホン酸共重合体、 (f)随意選択的な1種もしくは2種以上のアニオン性共重合体、 (g)随意選択的な1種もしくは2種以上の、第四級アミンを含むポリマー、 (h)該研磨組成物のpHを調整する、随意選択的な1種もしくは2種以上の化合物、および、 (i)水
IPC (3件)：
C09K 3/14 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00
FI (4件)：
C09K3/14 550Z ,  H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D
Fターム (27件)：
3C158AA07 ,  3C158CA04 ,  3C158CA05 ,  3C158CB01 ,  3C158DA02 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  3C158ED11 ,  3C158ED23 ,  3C158ED26 ,  5F057AA09 ,  5F057AA17 ,  5F057BA11 ,  5F057BA24 ,  5F057BB03 ,  5F057BB19 ,  5F057BB29 ,  5F057BB37 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA09 ,  5F057EA21 ,  5F057EA26 ,  5F057EA32
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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