基板処理装置および基板処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：振角正一 , 梁瀬右司 , 大西一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-236903
公開番号（公開出願番号）：特開2015-096830
出願日： 2013年11月15日
公開日（公表日）： 2015年05月21日
要約：

【課題】細かい位置調整作業を必要とせず、簡単な構成で確実に基板の保持状態を判定することのできる技術を提供する。【解決手段】基板Wを略水平姿勢に保持する保持手段11と、保持手段11を略鉛直軸周りに回転させる回転手段113と、保持手段11を収容する処理空間SPを形成する処理室90と、処理室90内に照明光を導入する照明手段71と、保持手段11に保持された基板Wを撮像する撮像手段72と、撮像手段72により撮像された画像から、基板W表面のうち照明手段71の正反射像を含まない少なくとも一部を含む領域を比較対象領域として、基板Wの回転位相角を互いに異ならせて撮像した複数の画像間における比較対象領域の画像内容の比較結果に基づき、保持手段11による基板Wの保持状態を判定する判定手段81,86とを備える基板処理装置である。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板を略水平姿勢に保持する保持手段と、前記保持手段を略鉛直軸周りに回転させる回転手段と、前記保持手段を収容する処理空間を形成する処理室と、前記処理室内に照明光を導入する照明手段と、前記保持手段に保持された前記基板を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像から、前記基板表面のうち前記照明手段の正反射像を含まない少なくとも一部を含む領域を比較対象領域として、前記基板の回転位相角を互いに異ならせて撮像した複数の画像間における前記比較対象領域の画像内容の比較結果に基づき、前記保持手段による前記基板の保持状態を判定する判定手段とを備える基板処理装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 , H01L 21/304 , H01L 21/68

FI (3件)：

G01B11/00 H , H01L21/304 648G , H01L21/68 F

Fターム (59件)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065AA35 , 2F065AA58 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065HH02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065MM04 , 2F065QQ21 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ31 , 2F065RR07 , 2F065RR08 , 5F131AA02 , 5F131BA12 , 5F131BA37 , 5F131BB03 , 5F131BB04 , 5F131CA54 , 5F131CA69 , 5F131DA33 , 5F131DA42 , 5F131DD43 , 5F131DD94 , 5F131EA06 , 5F131EA24 , 5F131EB01 , 5F131EB32 , 5F131FA13 , 5F131FA32 , 5F131JA16 , 5F131JA26 , 5F131JA27 , 5F131JA32 , 5F131KA14 , 5F131KA62 , 5F131KB09 , 5F131KB53 , 5F131KB56 , 5F131KB58 , 5F157AA03 , 5F157AB02 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157CD16 , 5F157CD29 , 5F157CE03 , 5F157CF02 , 5F157CF42 , 5F157CF50 , 5F157DA21 , 5F157DB47

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-254087 出願人：東京エレクトロン株式会社
外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-029282 出願人：オリンパス株式会社
形状検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-006224 出願人：株式会社ニコン

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