特許
J-GLOBAL ID：201503095440585721

レーザスポット溶接方法およびレーザスポット溶接装置

発明者：
関本 隆司

関本 隆司 について

, 
箱石 清治

箱石 清治 について

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風早 佑太

風早 佑太 について


出願人/特許権者：
日本アビオニクス株式会社

日本アビオニクス株式会社 について


代理人 (2件)： 山田 文雄 ,  山田 洋資
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-182011
公開番号（公開出願番号）：特開2015-047625
出願日： 2013年09月03日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：
【課題】溶け込み深さ(溶融深さ)の管理が容易であり、溶接スポット径(溶接面積)の調整を極めて容易にかつ正確に行うことができ、均質で安定したスポット溶接を行うことを可能にする。【解決手段】ファイバレーザ12Aを用いてスポット溶接する方法であって、ファイバレーザ12Aはシングルモードかつ連続波形のレーザとし、ファイバレーザ12Aの照射位置を、例えばスポット溶接位置14Aを中心にして螺旋状に移動させたり、中心から次第に拡径するように螺旋を描きながら移動させることによって、適切な溶接面積となるように溶接する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ファイバレーザを用いてスポット溶接する方法であって、 前記ファイバレーザはシングルモードかつ連続波形のレーザとし、前記ファイバレーザの照射位置をスポット溶接位置を中心にして移動させつつ溶接することを特徴とするレーザスポット溶接方法。
IPC (2件)：
B23K 26/22 ,  B23K 26/082
FI (2件)：
B23K26/22 ,  B23K26/08 B
Fターム (16件)：
4E068BF01 ,  4E068CA01 ,  4E068CA17 ,  4E068CD06 ,  4E068CE03 ,  4E068CE04 ,  4E068CK01 ,  4E068DA09 ,  5H043AA19 ,  5H043AA20 ,  5H043BA11 ,  5H043CA04 ,  5H043EA22 ,  5H043EA39 ,  5H043HA17E ,  5H043HA40E
引用特許：
審査官引用 (8件)
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