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J-GLOBAL ID：201602206232758044   整理番号：16A0251765

超並列電子線描画装置用nc-Si(ナノシリコン)面電子源のためのMEMS静電コンデンサレンズアレイの開発

著者 (8件)： 小島明 (東北大) ,  池上尚克 (東北大) ,  宮口裕 (東北大) ,  吉田慎哉 (東北大) ,  室山真徳 (東北大) ,  戸津健太郎 (東北大) ,  江刺正喜 (東北大) ,  越田信義 (東京農工大)
資料名： センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム(CD-ROM)  (センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム論文集(CD-ROM))
巻： 32nd  ページ： ROMBUNNO.28PM3-B-2  発行年： 2015年10月21日 
JST資料番号： X0768B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  熱電子放出 ,  *集光レンズ ,  *固体素子 ,  アパーチャ補正 ,  エッチング ,  ケイ素 ,  ドリル加工 ,  MEMS
準シソーラス用語： *コンデンサレンズ ,  シリコン ,  ナノシリコン ,  マイクロドリル加工 ,  *弾道電子放出型電子源 ,  電子線描画

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (9件)： 電子線描画 ,  NC ,  Si ,  シリコン ,  電子源 ,  MEMS ,  コンデンサレンズ ,  アレイ ,  開発