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J-GLOBAL ID：201602208728890131   整理番号：16A0337337

短い中間セグメント有するトリブロック三元共重合体における二相ナノ構造体操作による界面

Interface manipulated two-phase nanostructure in a triblock terpolymer with a short middle segment

著者 (15件)： MAEDA Rina (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  MAEDA Rina (Univ. of Tokyo, Chiba, JPN) ,  HIGUCHI Takeshi (Japan Sci. and Technol. Agency (JST) and ERATO, Fukuoka, JPN) ,  HIGUCHI Takeshi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  HIGUCHI Takeshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OKUHARA Kenta (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  KIKUCHI Ryohei (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKAHARA Atsushi (Japan Sci. and Technol. Agency (JST) and ERATO, Fukuoka, JPN) ,  TAKAHARA Atsushi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  OBER Christopher K (Cornell Univ., New York, USA) ,  JINNAI Hiroshi (Japan Sci. and Technol. Agency (JST) and ERATO, Fukuoka, JPN) ,  JINNAI Hiroshi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  JINNAI Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HAYAKAWA Teruaki (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  HAYAKAWA Teruaki (JST-PRESTO, Saitama, JPN)
資料名： Polymer Journal  (Polymer Journal)
巻： 48  号： 4  ページ： 533-538  発行年： 2016年04月 
JST資料番号： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異常なナノ構造を探索するための界面操作は,短い中間セグメント,ポリ(スチレン-b-メタクリル酸メチル-b-メタクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル)による戦略的に設計されたトリブロック三元共重合体を使用して実施した。任意の個別のドメインを形成しないポリメタクリル酸メチル(PMMA)の短い中間セグメントは,小角X線散乱(SAXS)および二重軸透過電子マイクロトモグラフィー(TEMT)によって確認されるように,ポリスチレン(PS)およびポリ(メタクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル)間の界面を操作する上で重要な役割を果たし,かつ斜め格子をもち従来存在しない部分的に連続した扁平円筒を形成するうえで重要な役割を果たすことが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *トリブロック共重合体 ,  *ナノ構造 ,  *セグメント ,  *セグメント化重合体 ,  *インタフェイス ,  *界面 ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  小角X線散乱 ,  トモグラフィー ,  リビングアニオン重合 ,  モルフォロジー ,  ミクロ相分離 ,  自己集合 ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物 ,  脂肪族カルボン酸 ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： 電子トモグラフィー ,  透過電子回折トモグラフィー

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (4件)： sec-ブチルリチウム ,  スチレン ,  メタクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル ,  メタクリル酸メチル

引用文献 (29件)：

• Park, M., Harrison, C., Chaikin, P. M., Register, R. A. & Adamson, D. H. Block Copolymer Lithography: Periodic Arrays of ~ 10¹¹ Holes in 1 Square Centimeter. Science 276, 1401-1404 (1997).
• Hirai, T., Leolukman, M., Liu, C. C., Han, E., Kim, Y. J., Ishida, Y., Hayakawa, T., Kakimoto, M.-a., Nealey, P. F. & Gopalan, P. One-step direct patterning template utilizing self-assembly of POSS containing block copolymers. Adv. Mater. 21, 4334-4338 (2009).
• Morita, H. Lithography process simulation studies using coarse-grained polymer models. Polym. J. 48, 45-50 (2016).
• Ueno, K., Fukai, T. & Watanabe, M. Thermosensitive soft glassy colloidal arrays of block copolymer-grafted silica nanoparticles in an ionic liquid. Polym. J. 48, 289-294 (2016).
• Breiner, U., Krappe, U., Thomas, E. L. & Stadler, R. Structural Characterization of the 'Knitting Pattern' in Polystyrene-block-poly(ethylene-co-butylene)-block-poly(methyl methacrylate) Triblock Copolymers. Macromolecules 31, 135-141 (1998).

タイトルに関連する用語 (5件)： セグメント ,  トリ ,  三元共重合体 ,  ナノ構造体 ,  界面