特許
J-GLOBAL ID：201603000096880317
光硬化性組成物、硬化物、これを用いた、パターン形状を有する膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-257800
公開番号（公開出願番号）：特開2016-006843
出願日： 2014年12月19日
公開日（公表日）： 2016年01月14日
要約：
【課題】凝縮性ガスを含む気体の雰囲気下でのインプリントプロセスにおいて、硬化不良を抑制し、パターンの欠陥が少なくできる光硬化性組成物を提供する。【解決手段】少なくとも(A)重合性化合物成分と、(B)光重合開始剤成分と、を有し、前記(B)成分が、5°Cかつ1気圧の条件下で、液状である凝縮性ガスへの飽和溶解度が1重量%未満である、もしくは、凝縮性ガスとのハンセン距離(Ra)が7.6より大きい、化合物である光硬化性組成物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凝縮性ガスを含む気体の雰囲気下でインプリントを行うための光硬化性組成物であって、少なくとも下記(A)成分と、(B)成分と、を有し、
(A)重合性化合物
(B)光重合開始剤
前記(B)成分が、5°Cかつ1気圧の条件下で、液状である前記凝縮性ガスへの飽和溶解度が1重量%未満である、もしくは、前記凝縮性ガスとのハンセン距離(Ra)が7.6より大きい、化合物であることを特徴とする光硬化性組成物。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, C08F 2/46
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
, C08F2/46
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ03
, 4F209AJ06
, 4F209AM30
, 4F209AR12
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4J011AA05
, 4J011QA03
, 4J011QA12
, 4J011SA05
, 4J011SA21
, 4J011SA25
, 4J011SA84
, 4J011UA01
, 4J011VA01
, 4J011VA04
, 4J011VA07
, 4J011VA09
, 4J011WA01
, 4J011WA07
, 5F146AA31
, 5F146AA33
