特許
J-GLOBAL ID:201603000180537431
太陽電池及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-225613
公開番号(公開出願番号):特開2016-092238
出願日: 2014年11月05日
公開日(公表日): 2016年05月23日
要約:
【課題】ガリウムドープ基板を備える、変換効率に優れた太陽電池及びその製造方法を提供する。【解決手段】一方の主表面を受光面とし、もう一方の主表面を裏面とするP型シリコン基板を備え、前記裏面上に誘電体膜を備え、前記P型シリコン基板が前記受光面の少なくとも一部にN型導電型層を有する太陽電池であって、 前記P型シリコン基板がガリウムがドープされたシリコン基板であり、 前記P型シリコン基板の前記裏面に、拡散された第III族の元素を含むものであることを特徴とする太陽電池。【選択図】図1
請求項(抜粋):
一方の主表面を受光面とし、もう一方の主表面を裏面とするP型シリコン基板を備え、前記裏面上に誘電体膜を備え、前記P型シリコン基板が前記受光面の少なくとも一部にN型導電型層を有する太陽電池であって、
前記P型シリコン基板がガリウムがドープされたシリコン基板であり、
前記P型シリコン基板の前記裏面に、拡散された第III族の元素を含むものであることを特徴とする太陽電池。
IPC (3件):
H01L 31/18
, H01L 31/068
, H01L 21/225
FI (3件):
H01L31/04 440
, H01L31/06 300
, H01L21/225 R
Fターム (9件):
5F151AA02
, 5F151BA17
, 5F151CB20
, 5F151DA03
, 5F151FA10
, 5F151FA13
, 5F151FA15
, 5F151GA15
, 5F151HA03
引用特許:
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