特許
J-GLOBAL ID：201603001361302947
成膜装置および膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
古部 次郎
, 千田 武
, 加藤 謹矢
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-285159
公開番号（公開出願番号）：特開2014-127669
特許番号：特許第5973344号
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 内部空間を有し、当該内部空間における下方側において膜の形成面が上方を向くように基板を収容する収容室と、
前記内部空間に収容された前記基板を加熱する加熱手段と、
前記内部空間に、前記基板の側方から当該基板に向かう第1方向に沿って、前記膜の原料となる原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
前記内部空間に、前記基板の直上から、上方から下方に向かう第2方向に沿って、当該原料ガスの当該上方への移動を抑制するブロックガスを第1速度で供給するとともに、当該基板よりも前記第1方向の下流側且つ上方から、当該第2方向に沿って、当該第1速度よりも速い第2速度で当該ブロックガスを供給し、さらに、当該基板よりも当該第1方向の上流側且つ上方から、当該第2方向に沿って、当該第1速度よりも速く当該第2速度よりも遅い第3速度で当該ブロックガスを供給するブロックガス供給手段と、
前記内部空間における前記第1方向の下流側且つ当該内部空間の下方側から、前記原料ガスおよび前記ブロックガスを外部に排出する排出手段と
を含む成膜装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, C23C 16/42 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, C23C 16/42
, C23C 16/455
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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