特許
J-GLOBAL ID:201603011709388250

他元素含有蒸発源、DLC膜形成方法及びDLC膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三木 久巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-161961
公開番号(公開出願番号):特開2016-037639
出願日: 2014年08月07日
公開日(公表日): 2016年03月22日
要約:
【課題】耐熱・耐摩耗性に優れたDLC膜の形成に好適な他元素含有蒸発源、DLC膜形成方法及びDLC膜形成装置を提供することである。【解決手段】本発明に係る他元素含有蒸発源は、全原子量に対する他元素の添加率Xが0at.%<X≦10at.%に調整され、密度を1.8〜2.3g/cm3とし、該他元素の元素比に対する、表面被覆面積率の比rを5≦r≦20にすることにより、アーク放電により該他元素を蒸発源表面に希薄且つ均一に分散させることで安定した放電を可能にすることができる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
固体状の炭素に水素と炭素以外の他元素を添加した真空アーク放電に用いられる固体状の蒸発源であって、前記蒸発源の全原子量に対する他元素の添加率Xが0at.%<X≦10at.%に調整され、前記蒸発源の密度が1.8〜2.3g/cm3の範囲であり、蒸発源表面のエネルギー分散型X線分析による元素分布像における前記他元素の表面被覆面積率をAm(%)とし、前記エネルギー分散型X線分析から得られた前記蒸発源表面における前記他元素の元素比をMm(at.%)としたとき、前記表面被覆面積率と前記元素比の比率r=Am/Mmが5≦r≦20であることを特徴とする他元素含有蒸発源。
IPC (3件):
C23C 14/32 ,  C23C 14/06 ,  C01B 31/02
FI (3件):
C23C14/32 A ,  C23C14/06 F ,  C01B31/02 101Z
Fターム (24件):
4G146AA05 ,  4G146AB07 ,  4G146AC23B ,  4G146AC27B ,  4G146AD02 ,  4G146AD26 ,  4G146BA01 ,  4G146BA38 ,  4G146BA45 ,  4G146BA46 ,  4G146BC17 ,  4G146DA03 ,  4G146DA17 ,  4G146DA22 ,  4K029AA04 ,  4K029BA34 ,  4K029BB10 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DB05 ,  4K029DD06 ,  4K029GA01
引用特許:
審査官引用 (3件)

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