特許
J-GLOBAL ID：201603014659324301
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (16件)：
蔵田 昌俊
, 福原 淑弘
, 中村 誠
, 野河 信久
, 白根 俊郎
, 峰 隆司
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 赤穂 隆雄
, 井上 正
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-030362
公開番号（公開出願番号）：特開2014-160143
特許番号：特許第6025600号
出願日： 2013年02月19日
公開日（公表日）： 2014年09月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により極性が変化する樹脂と、
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記樹脂(A)は、前記酸分解性繰り返し単位として、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を少なくとも含有し、更に、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含有し、前記化合物(B)は、活性光線又は放射線の照射により発生する酸のLogP値が3.0以下であり、且つ前記酸の分子量が430以上である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
式中、
R41、R42及びR43は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。但し、R42はAr4と結合して環を形成していてもよく、その場合のR42は単結合又はアルキレン基を表す。
X4は、単結合、-COO-、又は-CONR64-を表し、R64は、水素原子又はアルキル基を表す。
L4は、単結合又はアルキレン基を表す。
Ar4は、(n+1)価の芳香環基を表し、R42と結合して環を形成する場合には(n+2)価の芳香環基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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