特許
J-GLOBAL ID:201603017755079767

β-Ga2O3結晶の製造方法及び製造装置並びにるつぼ容器

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-214296
公開番号(公開出願番号):特開2016-079080
出願日: 2014年10月21日
公開日(公表日): 2016年05月16日
要約:
【課題】 大形かつ高品質のβ-Ga2O3結晶を得ることができるβ-Ga2O3結晶の好適な製造方法、製造装置及びこれに用いるるつぼを提供する。【解決手段】 Pt-Rh系合金るつぼを使用し、酸素雰囲気下において、β-Ga2O3の結晶を育成する。 るつぼ容器として、Rh含有量10〜20wt%のPt-Rh系合金るつぼを使用し、VB法またはHB法を適用してβ-Ga2O3結晶を育成することができる。るつぼ容器として、Rh含有量15〜30wt%のPt-Rh系合金るつぼを使用し、CZ法を適用してβ-Ga2O3結晶を育成することができる。るつぼ容器及びダイとして、含有量15〜30wt%のPt-Rh系合金を使用し、EFG(縁端限定成長)法を適用してβ-Ga2O3結晶を育成することができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
Pt-Rh系合金るつぼを使用し、酸素雰囲気下において、β-Ga2O3の結晶を育成することを特徴とするβ-Ga2O3結晶の製造方法。
IPC (4件):
C30B 29/16 ,  C30B 11/00 ,  C30B 15/10 ,  C30B 15/24
FI (4件):
C30B29/16 ,  C30B11/00 C ,  C30B15/10 ,  C30B15/24
Fターム (10件):
4G077AA02 ,  4G077BB10 ,  4G077CD01 ,  4G077CD04 ,  4G077CF10 ,  4G077EA07 ,  4G077EG02 ,  4G077MA02 ,  4G077PD01 ,  4G077PK07
引用特許:
審査官引用 (8件)
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