特許
J-GLOBAL ID:201303091921348456

酸化ガリウム単結晶、及び、酸化ガリウム単結晶基板

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-098402
公開番号(公開出願番号):特開2013-227160
出願日: 2012年04月24日
公開日(公表日): 2013年11月07日
要約:
【課題】原料の無駄を大幅に改善することができる酸化ガリウム単結晶、及び、酸化ガリウム単結晶基板を提供する。【解決手段】酸化ガリウム単結晶13は、双晶14を1〜70%含んでいる。酸化ガリウム単結晶13は、EFG法によって製造されている。双晶14は、その引上げ方向に沿って帯状に形成されている。酸化ガリウム単結晶基板は、酸化ガリウム単結晶13からなる。酸化ガリウム単結晶基板は、表面にCMP加工が施され、結晶面ごとの研磨加工レート差によって、幅が3〜10μmの範囲で揃った凹凸を持ったストライプ状に形成されている。【選択図】図3
請求項(抜粋):
双晶を1〜70%含む、ことを特徴とする酸化ガリウム単結晶。
IPC (2件):
C30B 29/16 ,  C30B 15/34
FI (2件):
C30B29/16 ,  C30B15/34
Fターム (6件):
4G077AA02 ,  4G077BB10 ,  4G077CF03 ,  4G077FG17 ,  4G077HA12 ,  4G077PK03
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
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