NUMAZAWA Satoshi について
Samsung R&D Inst. Japan, Yokohama, JPN について
MACHIDA Ken について
Samsung R&D Inst. Japan, Yokohama, JPN について
ISOBE Michiro について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
HAMAGUCHI Satoshi について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
分子動力学 について
プラズマエッチング について
ケイ素 について
二酸化ケイ素 について
窒化ケイ素 について
ラジカル について
フッ素 について
基板 について
モデリング について
計算機シミュレーション について
発光 について
固体デバイス製造技術一般 について
Si について
SiO2 について
Si3N4 について
エッチングプロセス について
フッ素 について
ラジカル について
多層 について
吸着 について
メカニズム について
分子動力学 について
研究 について