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J-GLOBAL ID:201702230868684445   整理番号:17A0432267

Silicon-on-insulator MOSデバイスにおける実時間チャージポンピング

Time-domain charge pumping on silicon-on-insulator metal-oxide-semiconductor devices
著者 (4件):
資料名:
巻: 116  号: 471(ED2016 130-142)  ページ: 7-12  発行年: 2017年02月17日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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チャージポンピング(CP)中の過渡電流をモニターする実時間CPをゲート付きsilicon-on-insulator(SOI)MOS p-i-nダイオードに応用し,過渡電流がバックゲート(基板)電圧の極性に強く依存していることを発見した。特に,バックゲート電圧が正のバイアスの場合,界面欠陥への電子の捕獲によって生じる電流のピークが消失する(または非常に小さい)ことが分かり,この特性は捕獲された電子のチャージの効果で与えられる。この結果はバックチャネルの形成の重要性を明らかにし,SOIMOSデバイスのCPのさらなる詳細な解析に対して重要な情報を与える。(著者抄録)
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