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J-GLOBAL ID：201702274670955248   整理番号：17A1810257

極端紫外リソグラフに使用する光分解性クエンチャをもつ化学増幅レジストのショットノイズ限界

Shot noise limit of chemically amplified resists with photodecomposable quenchers used for extreme ultraviolet lithography

著者 (3件)： KOZAWA Takahiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SANTILLAN Julius Joseph (Evolving Nano-process Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN) ,  ITANI Toshiro (Evolving Nano-process Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 6  ページ： 066501.1-066501.6  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外(EUV)放射のような高エネルギー光子を使用するリソグラフィにおいて,光のショットノイズは重要な問題である。ショットノイズは,ライン端/幅粗化(LER/LWR)や欠陥発生を引き起こし,レジスト性能を制限する。本研究では,ショットノイズ限界の観点から,光分解性クエンチャの影響を検討した。ハーフピッチが11nmのラインアンドスペースパターンの潜像を,モンテカルロ法を用いて計算した。本シミュレーションにおいては,LERのような統計的現象に関連したショットノイズ限界を明確にするために,二次電子ボケの影響を除いた。全増感剤濃度が同じ場合,酸発生剤と光分解性クエンチャをもつ化学増幅レジストのショットノイズ限界は,酸発生剤および通常のクエンチャをもつ化学増幅レジストの場合と略等しかった。 光分解性クエンチャのショットノイズ限界に対する影響は基本的に,酸発生剤と同じであった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *極端紫外線 ,  *ショット雑音 ,  消光剤 ,  フォトレジスト
準シソーラス用語： ショットノイズ ,  クエンチャー ,  EUVフォトレジスト

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (40件)：

• H. Ito and C. G. Willson, Polym. Eng. Sci. 23, 1012 (1983).
• H. Ito, Microlithography/Molecular Imprinting (Springer, Heidelberg, 2005) Advances in Polymer Science Series, Vol. 172, p. 37.
• H. Kinoshita, K. Kurihara, Y. Ishii, and Y. Torii, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1648 (1989).
• M. D. Smith, J. Biafore, and C. Fang, Proc. SPIE 8682, 868203 (2013).
• G. Gallatin, P. Naulleau, and R. Brainard, Proc. SPIE 8322, 83221C (2012).

タイトルに関連する用語 (7件)： 極端紫外 ,  リソグラフ ,  光分解 ,  クエンチャ ,  化学増幅レジスト ,  ショットノイズ ,  限界