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J-GLOBAL ID：201702275297083726   整理番号：17A1221110

数層MoSe₂の光学二次高調波強度に及ぼすSiO₂/Si(001)基板の酸化物厚みの影響

Influence of the oxide thickness of a SiO₂/Si(001) substrate on the optical second harmonic intensity of few-layer MoSe₂

著者 (7件)： MIYAUCHI Yoshihiro (National Defense Acad. of Japan, Kanagawa, JPN) ,  MORISHITA Ryo (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  TANAKA Masatoshi (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  OHNO Sinya (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  MIZUTANI Goro (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  SUZUKI Takanori (National Defense Acad. of Japan, Kanagawa, JPN) ,  SUZUKI Takanori (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 55  号： 8  ページ： 085801.1-085801.4  発行年： 2016年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学第二高調波発生(SHG)顕微鏡を用いてSiO₂/Si基板上の数層MoSe₂の非線形光学特性を調べた。厚みが90nmまたは270nmのSiO₂被覆Si(001)基板上に単結晶から数層薄片を機械的に剥離した。単層または三層MoSe₂薄片からの入射偏光の回転角の関数としての二次高調波(SH)強度の極性図は三重対称性を示し,単層結晶方位を維持することを示唆した。SHGスペクトルは系内の多重反射SH光ビーム間の干渉を用いて解釈した基板の酸化物厚(90または270nm)に強く依存することが分かった。この干渉を考慮することにより,SHGスペクトルにおいて2.9eV以下の2光子エネルギーで共振ピークを同定した。SHG顕微鏡の空間分解能は0.53μmと推定された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *第二高調波発生 ,  二酸化ケイ素 ,  *セレン化物 ,  *モリブデン化合物 ,  薄膜 ,  高調波 ,  偏光 ,  *膜厚
準シソーラス用語： *セレン化モリブデン ,  二次高調波 ,  非線形光学特性 ,  偏光回転 ,  *膜厚依存性

分類 (1件)： 非線形光学  (BD05000T)

引用文献 (29件)：

• A. K. Geim and I. V. Grigorieva, Nature 499, 419 (2013).
• L. M. Malard, T. V. Alencar, A. P. M. Barboza, K. F. Mak, and A. M. Paula, Phys. Rev. B 87, 201401 (2013).
• C. Lee, G. Lee, A. M. Zande, W. Chen, Y. Li, M. Han, X. Cui, G. Arefe, C Nuckolls, T. F. Heinz, J. Guo, J. Hone, and P. Kim, Nat. Nanotechnol. 9, 676 (2014).
• B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti, and A. Kis, Nat. Nanotechnol. 6, 147 (2011).
• A. Splendiani, L. Sun, Y. Zhang, T. Li, J. Kim, C. Y. Chim, G. Galli, and F. Wang, Nano Lett. 10, 1271 (2010).

タイトルに関連する用語 (6件)： 光学 ,  二次高調波 ,  SiO2 ,  Si ,  酸化物 ,  厚み