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J-GLOBAL ID：201702281582183633   整理番号：17A1477841

パターン化熱応答挙動を有するポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)-粘土ナノ複合ヒドロゲル

Poly (N-isopropylacrylamide)-Clay Nanocomposite Hydrogels with Patterned Thermo-Responsive Behavior

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著者 (2件)： Maki Yasuyuki (Division of Molecular Science, Graduate School of Science and Technology, Gunma University) ,  Dobashi Toshiaki (Division of Molecular Science, Graduate School of Science and Technology, Gunma University)
資料名： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 42  号： 4  ページ： 119-122(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： L4468A  ISSN： 1382-3469  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 数百マイクロメートルの小さなパターンを有するポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)(PNIPA)-粘土ナノ複合ヒドロゲル(NCゲル)をパターン化したフォトマスクを用いて光開始ラジカル重合により調製した。得られたゲルの照射した領域は,より低い臨界溶液温度(LCST)を超える温度でマスクされた領域よりも不透明になり,変調熱応答挙動を有する小さなパターンが伸縮可能で強靭なPNIPA-粘土NCゲルが作製可能であることを示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリアクリルアミド ,  *粘土 ,  *ナノ複合材料 ,  光開始剤 ,  *ラジカル重合 ,  *ヒドロゲル ,  フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  透明度 ,  刺激応答性高分子 ,  *熱応答 ,  *パターン形成 ,  ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド) ,  不透明度 ,  熱応答性高分子 ,  マスク
準シソーラス用語： パターン化

著者キーワード (4件)： hydrogel ,  nanocomposite ,  thermo-responsive ,  photolithography

分類 (4件)： 単独重合  (CG04020S) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

引用文献 (16件)：

• [1] C. W. Peak, J. J. Wilker, and G. Schmidt, Colloid Polym. Sci., 291, 2031-2047 (2013).
• [2] A. B. Imran, T. Seki, and Y. Takeoka, Polym. J., 42, 839-851 (2010).
• [3] Y. Tanaka, J. P. Gong, and Y. Osada, Prog. Polym Sci., 30, 1-9 (2005).
• [4] K. Haraguchi, Polym. J., 43, 223-241 (2011).
• [5] K. Haraguchi, and T. Takada, Macromolecules, 433, 4294-4299 (2010).

タイトルに関連する用語 (7件)： パターン化 ,  熱応答 ,  挙動 ,  N-イソプロピルアクリルアミド ,  粘土 ,  ナノ複合 ,  ヒドロゲル