特許
J-GLOBAL ID：201703000007763610
新規の熱処理装置
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
園田・小林特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-164422
公開番号（公開出願番号）：特開2017-041637
出願日： 2016年08月25日
公開日（公表日）： 2017年02月23日
要約：
【課題】基板の表面上に含まれるアニール領域にわたって均一な量のエネルギーを確実に送達することができる光学システムを提供する。【解決手段】光学システム100は、基板の表面上の所望の領域上に所望の2次元形状を有する均一な量のエネルギーを送達または投影するように適合される。その光学システムのエネルギー源は典型的には複数のレーザであり、それらのレーザを合成してエネルギー場を形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を熱処理する装置であって、
電磁エネルギーパルスを生成するように動作可能な電磁エネルギー源と、
前記電磁エネルギー源から電磁エネルギーパルスを受信するように位置決めされるパルスコンバイナ、パルスシェーパ、ホモジナイザおよび開孔部材を備える光学システムと、
前記光学システムに対して基板を移動させるように動作可能な基板支持体と、
前記光学システムの光路に沿って前記基板を視認するように動作可能な結像システムと
を備える装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/268 J
, H01L21/268 T
, H01L21/268 G
, H01L21/20
5F152AA08
, 5F152EE02
, 5F152EE05
, 5F152FF03
, 5F152FF05
, 5F152FF06
, 5F152FF08
, 5F152FF31
, 5F152FF43
, 5F152FF44
, 5F152FF45
, 5F152FF47
, 5F152FG03
, 5F152FG04
, 5F152FG18
, 5F152FG29
