特許
J-GLOBAL ID：201703000568969250
パターン位相差フィルムの製造方法、マスク及びパターン位相差フィルムのロール体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
正林 真之
, 芝 哲央
, 林 一好
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-141429
公開番号（公開出願番号）：特開2015-014713
特許番号：特許第6136665号
出願日： 2013年07月05日
公開日（公表日）： 2015年01月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 長尺の透明フィルム材による基材を搬送しながら順次処理して、前記透明フィルム材の幅方向で複数個取りによりパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記透明フィルム材に、配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に、右目用の透過光に対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に対応する位相差を与える左目用の領域とによる位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記配向膜作製工程では、
前記透明フィルム材の幅方向の少なくとも両端部から作製されるパターン位相差フィルムについては、前記透明フィルム材の幅方向の中心となるフィルム中心に対して線対称形状により前記配向膜を作製し、
前記配向膜において、前記パターン位相差フィルムの使用状態における有効画像表示領域の上方に対応する部位に設けられるダミー領域に対応する領域を、前記フィルム中心に対して線対称形状となるように前記透明フィルム材の幅方向の両端部に形成する
パターン位相差フィルムの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ( 200 6.01)
, G02F 1/1336 ( 200 6.01)
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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