特許
J-GLOBAL ID:201303003603753264
パターン位相差フィルム、その製造方法、光学積層体の製造方法、及び3D画像表示装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-145491
公開番号(公開出願番号):特開2013-011800
出願日: 2011年06月30日
公開日(公表日): 2013年01月17日
要約:
【課題】微細なパターンを有するパターン位相差フィルムの裁断及び他の光学素子との位置合わせの困難性の軽減。【解決手段】画像表示装置の表示画素部に貼合される表示画素領域を有するパターン位相差フィルムであって、前記表示画素領域が、面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なる第1位相差領域及び第2位相差領域が、ストライプ状に且つピッチd1で交互に配置されているパターンを有し、及び前記表示画素領域から外側の距離d2の位置に、前記第1及び第2位相差領域の長手方向に沿った線状のマークが少なくとも存在する非表示画素領域を有し、d1とd2が等しくないことを特徴とするパターン位相差フィルムである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
画像表示装置の表示画素部に貼合される表示画素領域を有するパターン位相差フィルムであって、
前記表示画素領域が、面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なる第1位相差領域及び第2位相差領域が、ストライプ状に且つピッチd1で交互に配置されているパターンを有し、及び
前記表示画素領域から外側の距離d2の位置に、前記第1及び第2位相差領域の長手方向に沿った線状のマークが少なくとも存在する非表示画素領域を有し、
d1とd2が等しくないことを特徴とするパターン位相差フィルム。
IPC (3件):
G02B 5/30
, G02F 1/133
, G02F 1/13
FI (3件):
G02B5/30
, G02F1/13363
, G02F1/13 505
Fターム (32件):
2H088EA06
, 2H088HA17
, 2H088MA20
, 2H149AA02
, 2H149AA20
, 2H149AB26
, 2H149DA02
, 2H149DA04
, 2H149DA12
, 2H149DB03
, 2H149DB15
, 2H149EA06
, 2H149EA19
, 2H149FA24Y
, 2H149FA34Y
, 2H149FB04
, 2H149FB05
, 2H149FD05
, 2H191FA22X
, 2H191FA30X
, 2H191FB05
, 2H191FC10
, 2H191FC23
, 2H191FD04
, 2H191FD32
, 2H191FD35
, 2H191LA13
, 2H191MA01
, 2H191PA42
, 2H191PA44
, 2H191PA50
, 2H191PA86
引用特許:
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