特許
J-GLOBAL ID：201303046361478469
パターン位相差フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
正林 真之
, 林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-177442
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041078
出願日： 2011年08月15日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：
【課題】パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、高い精度により簡易かつ大量に作製することができるパターン位相差フィルムの製造方法を提供する。またカラーフィルタ等の光学フィルムに関して、高い精度により簡易かつ大量に作製することができる製造方法を提案する。【解決手段】マスクを使用した露光処理により簡易かつ大量に作製できるようにして、実測値に基づいてこのマスクを部分的に拡大縮小して精度を向上する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
マスクを使用した露光処理により透明フィルム材を処理してパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記パターン位相差フィルムは、
右目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用の領域とが、帯状に、順次交互に作製され、
前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
前記右目用の領域と左目用の領域との幅を、前記パターン位相差フィルムの各部で計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記右目用の領域と左目用の領域との作製に供するマスクを局所的に拡大縮小するマスク補正工程とを備える
パターン位相差フィルムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2H149AA20
, 2H149AB26
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB01
, 2H191FA30
, 2H191FB05
, 2H191FC10
, 2H191GA08
, 2H191LA13
, 2H191MA01
, 2H191PA87
