特許
J-GLOBAL ID：201703006127118015

複数の酸発生剤化合物を含むフォトレジスト

発明者：
ジェームズ・ダブリュー.サッカレー

ジェームズ・ダブリュー.サッカレー について

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チン・ウク・ソン

チン・ウク・ソン について

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ポール・ジェイ.ラボーム

ポール・ジェイ.ラボーム について

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ビプル・ジェイン

ビプル・ジェイン について


出願人/特許権者：
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー

ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-207873
公開番号（公開出願番号）：特開2017-049599
出願日： 2016年10月24日
公開日（公表日）： 2017年03月09日
要約：
【課題】EUVリソグラフィー(EUVL)技術の実施にとって困難な課題である、低いライン幅ラフネス(LWR)を含む高解像度の微細なフィーチャ及びウエハスループットを提供するのに十分な感度を有するEUVフォトレジストを提供する。【解決手段】(a)結合された酸発生剤を含むポリマー、及び(b)ポリマーに結合されておらず且つ1つ以上の酸不安定基を含む酸発生剤化合物を含むフォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)ポリマーであって、それに結合された酸発生剤を含むポリマー、および (b)前記ポリマーに結合されておらずかつ1つ以上の酸不安定基を含む酸発生剤化合物、 を含むフォトレジスト組成物であって、 前記(a)結合された酸発生剤および/または前記(b)酸発生剤化合物が、チオキサントン部分を含み、 前記(a)結合された酸発生剤が、前記ポリマーに共有結合されたアニオン成分を含むフォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/20 ,  C08F 20/38 ,  C09K 3/00
FI (5件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/20 521 ,  C08F20/38 ,  C09K3/00 K
Fターム (42件)：
2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF29P ,  2H225AF48P ,  2H225AF52P ,  2H225AF53P ,  2H225AF68P ,  2H225AF91P ,  2H225AF99P ,  2H225AH14 ,  2H225AH38 ,  2H225AH39 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ53 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ58 ,  2H225AM66P ,  2H225AN11P ,  2H225AN56P ,  2H225AN57P ,  2H225AN61P ,  2H225AN62P ,  2H225BA01P ,  2H225BA26P ,  2H225BA32P ,  2H225CA12 ,  2H225CB14 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA15P ,  4J100BA56P ,  4J100BB07P ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BC43P ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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