特許
J-GLOBAL ID：201703007009289243

基板処理装置

発明者：
稲垣 幸彦

稲垣 幸彦 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-244440
公開番号（公開出願番号）：特開2014-093476
特許番号：特許第6050091号
出願日： 2012年11月06日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板に処理流体を供給することにより基板の処理を行う基板処理装置であって、 処理流体を吐出するように構成された吐出ノズルと、 前記吐出ノズルに処理流体を供給するように構成された流体供給部とを備え、 前記吐出ノズルは、 前記流体供給部により供給される処理流体を貯留可能な貯留部と、 吐出口を有するとともに、前記貯留部から前記吐出口に処理流体を導くための吐出流路を形成する流路形成部と、 前記貯留部から前記吐出流路を通して前記吐出口に導かれる処理流体の流量を調整可能に構成された流量調整機構とを含み、 前記流体供給部は、前記吐出ノズルに導かれる処理流体を継続的に加圧する加圧部を含む、基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B05C 5/00 ( 200 6.01) ,  B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (8件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 R ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 648 G
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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