特許
J-GLOBAL ID:201703008145078252
電子デバイス又は他の部品上のコーティングに使用するハイブリッド層
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
村山 靖彦
, 実広 信哉
, 阿部 達彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-134084
公開番号(公開出願番号):特開2016-207660
出願日: 2016年07月06日
公開日(公表日): 2016年12月08日
要約:
【課題】表面上にコーティングを形成する方法が開示される。【解決手段】本方法がポリマー材料と非-ポリマー材料との混合物を含むハイブリッド層を表面上に堆積する段階を含む。ハイブリッド層が、単相を有してよく、または多相を含んでもよい。ハイブリッド層が、単一源の前駆体物質を使用した化学気相成長法によって形成される。化学気相成長法プロセスが、プラズマ助長型であってよく、反応ガスを使用して行われてもよい。前駆体物質が、シロキサンのような有機-シリコン化合物でよい。ハイブリッド層が、シリコーンポリマーのような様々な種類のポリマー材料、及び酸化シリコンのような様々な種類の非-ポリマー材料を含んでよい。反応条件を変えることにより、ポリマー材料と非-ポリマー材料とのwt%比が調整されてよい。ハイブリッド層が、光透過性、不浸透性、及び/又は柔軟性のような、有機発光デバイスへの使用に適した様々な特性を有してよい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
前駆体物質の原料を提供する段階、
コーティングされる表面に近接する反応位置に前記前駆体物質を運ぶ段階、及び
前記前駆体物質の原料を使用する化学気相成長法によって、前記表面上にハイブリッド層を堆積する段階を備え、
前記ハイブリッド層が、ポリマー材料と非-ポリマー材料との混合物を含み、
前記ポリマー材料と非-ポリマー材料との重量比が、95:5から5:95の範囲であり、
前記ポリマー材料及び非-ポリマー材料が、前記前駆体物質の同一の原料から形成されることを特徴とする表面上にコーティングを形成する方法。
IPC (5件):
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/04
, C23C 16/42
, C08G 83/00
FI (5件):
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/04
, C23C16/42
, C08G83/00
Fターム (41件):
3K107AA01
, 3K107CC23
, 3K107CC25
, 3K107CC45
, 3K107DD18
, 3K107EE48
, 3K107EE49
, 3K107EE50
, 3K107FF02
, 3K107FF06
, 3K107FF08
, 3K107FF09
, 3K107FF14
, 3K107FF15
, 3K107GG03
, 3K107GG12
, 3K107GG28
, 4J031BA17
, 4J031BB01
, 4J031BB02
, 4J031BB03
, 4J031BB05
, 4J031BC07
, 4J031BD12
, 4J031BD21
, 4J031BD26
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA16
, 4K030AA18
, 4K030BA40
, 4K030BA44
, 4K030BA61
, 4K030BB12
, 4K030CA04
, 4K030CA07
, 4K030DA03
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030LA01
, 4K030LA18
引用特許:
審査官引用 (11件)
-
無機/有機フィルムを堆積させる方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-566274
出願人:ネーデルランドセオルガニサティエフォールトエゲパストナトールヴェテンシャッペリクオンデルゾエクティエヌオー, テクニシェユニベルシテイトアイントホーフェン
-
層間絶縁膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-197596
出願人:松下電器産業株式会社
-
Si系有機・無機ハイブリッド膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-417632
出願人:有限会社マテリアルデザインファクトリ-
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