特許
J-GLOBAL ID:201703009315279459
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
立石 篤司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-123836
公開番号(公開出願番号):特開2016-197244
出願日: 2016年06月22日
公開日(公表日): 2016年11月24日
要約:
【課題】基板の高精度なアライメントを高スループットで行うとともに、露光時にウエハを露光位置へ精度良く位置合わせする。【解決手段】 制御装置は、アライメント系(AL1、AL21〜AL24)によるマークの検出動作において、XY面内でX方向と直交するY方向に関して位置が異なるウエハWの複数のマークをアライメント系(AL1、AL21〜AL24)の検出領域の少なくとも一部で検出するために、複数の検出領域に対してウエハWがY方向に相対移動されるようにステージWSTの駆動系を制御し、ウエハWの露光動作において、アライメント系(AL1、AL21〜AL24)の検出領域の相対位置情報およびアライメント系によるマークの検出情報が用いられる。【選択図】図23
請求項(抜粋):
投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系から離れて配置され、前記投影光学系の光軸と直交する所定面内の第1方向に関して位置が異なる複数の検出領域でそれぞれ前記基板のマークを検出可能なマーク検出系と、
前記マーク検出系によって検出可能なマークを有する基準部材と、
前記投影光学系および前記マーク検出系の下方に配置され、前記基板を保持するホルダを有するステージと、
前記ステージを駆動するモータを有する駆動系と、
前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記ステージと対向するように前記投影光学系および前記マーク検出系の下端側に設けられるとともに、前記ヘッドを介して前記格子部に計測ビームを照射し、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって前記ステージの位置情報を計測するエンコーダシステムと、
前記ヘッドによる前記位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記ヘッドと前記格子部との相対運動に起因して生じる、前記計測方向に関する前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記複数の検出領域の相対位置情報を取得するために、前記複数の検出領域でそれぞれ前記基準部材のマークが検出されるように前記マーク検出系の下方に前記基準部材を配置するとともに、前記マーク検出系による前記マークの検出動作において、前記所定面内で前記第1方向と交差する第2方向に関して位置が異なる前記基板の複数のマークを前記複数の検出領域の少なくとも一部で検出するために、前記複数の検出領域に対して前記基板が前記第2方向に相対移動されるように前記駆動系を制御し、
前記基板の露光動作において、前記複数の検出領域の相対位置情報および前記マーク検出系の検出情報が用いられ、
前記検出動作と前記露光動作でそれぞれ、前記エンコーダシステムによって前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
IPC (6件):
G03F 9/00
, G03F 7/20
, G01B 11/00
, G01B 11/26
, G01D 5/347
, H01L 21/68
FI (6件):
G03F9/00 H
, G03F7/20 521
, G01B11/00 G
, G01B11/26 G
, G01D5/347
, H01L21/68 F
Fターム (95件):
2F065AA02
, 2F065AA04
, 2F065AA06
, 2F065AA32
, 2F065BB15
, 2F065BB25
, 2F065BB27
, 2F065EE11
, 2F065EE12
, 2F065FF11
, 2F065FF16
, 2F065FF51
, 2F065GG06
, 2F065MM12
, 2F103CA03
, 2F103DA12
, 2F103ED11
, 2H197AA09
, 2H197AA12
, 2H197CA06
, 2H197CA08
, 2H197CD12
, 2H197CD16
, 2H197CD36
, 2H197CD43
, 2H197CD48
, 2H197DC06
, 2H197DC13
, 2H197DC14
, 2H197EA17
, 2H197EB13
, 2H197EB16
, 2H197EB18
, 2H197EB23
, 2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA06
, 2H197HA10
, 5F131AA02
, 5F131AA03
, 5F131AA10
, 5F131AA12
, 5F131AA13
, 5F131AA21
, 5F131AA32
, 5F131AA33
, 5F131AA40
, 5F131BA13
, 5F131BA39
, 5F131BA54
, 5F131CA02
, 5F131CA06
, 5F131CA17
, 5F131CA32
, 5F131DA09
, 5F131DA33
, 5F131DA36
, 5F131DA42
, 5F131EA02
, 5F131EA06
, 5F131EA13
, 5F131EA14
, 5F131EA15
, 5F131EA16
, 5F131EA17
, 5F131EA18
, 5F131EA22
, 5F131EA23
, 5F131EA24
, 5F131EA25
, 5F131EA27
, 5F131EB01
, 5F131EB56
, 5F131EB78
, 5F131EB79
, 5F131EB89
, 5F131FA17
, 5F131FA32
, 5F131FA33
, 5F131FA37
, 5F131FA39
, 5F131JA16
, 5F131JA40
, 5F131KA03
, 5F131KA14
, 5F131KA16
, 5F131KA40
, 5F131KA44
, 5F131KA47
, 5F131KA72
, 5F131KB07
, 5F131KB12
, 5F131KB32
, 5F131KB53
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-014283
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
測長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-136449
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-281566
出願人:株式会社ニコン, 株式会社仙台ニコン
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