特許

J-GLOBAL ID：201703010990069780

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 二井 知紀
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (6件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  藤中 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-181276
公開番号（公開出願番号）：特開2017-058421
出願日： 2015年09月14日
公開日（公表日）： 2017年03月23日
要約：

【課題】LWR性能、断面形状の矩形性及び膜収縮抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記重合体が下記式(1)で表される化合物存在下でのラジカル重合により得られることを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。Aは、-CH2-、酸素原子又は-NR1-である。R1は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。Lは、炭素数1〜30の2価の有機基である。R1及びLは、互いに合わせられ、R1に結合する窒素原子及びZに結合する炭素原子と共に環員数3〜10の環構造を形成してもよい。Zは、=CR2R3又は硫黄原子である。R2及びR3は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び 感放射線性酸発生体 を含有する感放射線性樹脂組成物であって、 上記重合体が下記式(1)で表される化合物の存在下でのラジカル重合により得られることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/20 ,  C08F 20/12 ,  C08F 12/02 ,  C08F 24/00 ,  C08F 28/00 ,  C08F 30/00

FI (8件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/20 521 ,  C08F20/12 ,  C08F12/02 ,  C08F24/00 ,  C08F28/00 ,  C08F30/00

Fターム (76件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF22P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH19 ,  2H125AH20 ,  2H125AH21 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ41Y ,  2H125AJ45Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  2H197AA12 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H197JA30 ,  2H225AF53P ,  2H225AF54P ,  2H225AF67P ,  2H225AF68P ,  2H225AF70P ,  2H225AL03 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AM21P ,  4J100AU21Q ,  4J100AU26Q ,  4J100AU27Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA04P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43P ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-099225   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-282113   出願人：富士フイルム株式会社
• 無水イタコン酸ポリマーおよびそれを含むフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-376443   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• 化合物、重合体及びフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-215754   出願人：JSR株式会社
• 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-167291   出願人：JSR株式会社