特許
J-GLOBAL ID：201703012341318730
基板処理装置、温度計測システム、処理装置の温度計測方法、搬送装置及び記録媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-518416
特許番号：特許第6175432号
出願日： 2013年05月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】保持具に保持した状態で装入された基板を処理する処理室と、前記処理室の温度を計測する温度計測器と、少なくとも前記保持具に前記基板を搬送する搬送装置と、前記処理室の温度を計測する前に、前記搬送装置を、予め設定された位置に移動させ、前記処理室の温度を計測する際に、前記温度計測器を取り付けた状態で前記搬送装置を昇降させながら、前記温度計測器からの温度を取得するコントローラと、を有する基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
, H01L 21/22 ( 200 6.01)
, H01L 21/324 ( 200 6.01)
, C23C 16/52 ( 200 6.01)
H01L 21/31 E
, H01L 21/316 S
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/22 511 Z
, H01L 21/324 T
, C23C 16/52
