特許
J-GLOBAL ID：201703012398323897
エキシマレーザ装置及びエキシマレーザシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
保坂 延寿
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-198548
公開番号（公開出願番号）：特開2016-225667
出願日： 2016年10月06日
公開日（公表日）： 2016年12月28日
要約：
【課題】レーザチャンバ内の全ガス交換の回数を抑制する。【解決手段】このエキシマレーザ装置は、ハロゲンガスを含む第1レーザガスを収容した第1容器と、第1レーザガスよりもハロゲンガス濃度の低い第2レーザガスを収容した第2容器と、に接続され、第1レーザガス及び第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給を行うガス供給部を含んでもよい。そして、ガス供給部による第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給、及び、ガス排気部によるレーザチャンバの内部のガスの部分的な排気のいずれかを行うガス圧制御と、ガス供給部による第1レーザガス及び第2レーザガスのレーザチャンバの内部への供給、及び、ガス排気部によるレーザチャンバの内部のガスの部分的な排気の両者を行う部分ガス交換制御と、を選択的に行ってもよい。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ガスを封入するレーザチャンバと、
前記レーザチャンバの内部に配置された少なくとも一対の電極と、
前記電極間に電圧を供給する電源部と、
ハロゲンガスを含む第1レーザガスを収容した第1容器と、前記第1レーザガスよりもハロゲンガス濃度の低い第2レーザガスを収容した第2容器と、に接続され、前記第1レーザガス及び前記第2レーザガスの前記レーザチャンバの内部への供給を行うガス供給部と、
前記レーザチャンバの内部のガスの部分的な排気を行うガス排気部と、
前記ガス供給部及び前記ガス排気部を制御するガス制御部と、
を備え、
前記ガス制御部は、
前記ガス供給部による前記第2レーザガスの前記レーザチャンバの内部への供給、及び、前記ガス排気部による前記レーザチャンバの内部のガスの部分的な排気のいずれかを行うガス圧制御と、
前記ガス供給部による前記第1レーザガス及び前記第2レーザガスの前記レーザチャンバの内部への供給と、前記ガス排気部による前記レーザチャンバの内部のガスの部分的な排気とを順次行う部分ガス交換制御と、
を選択的に行う、エキシマレーザ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
5F071AA06
, 5F071EE04
, 5F071HH02
, 5F071HH06
, 5F071JJ05
, 5F071JJ08
, 5F172AD06
, 5F172DD03
, 5F172EE22
, 5F172NN23
, 5F172NP02
, 5F172NP05
, 5F172NP14
, 5F172NP16
, 5F172NQ03
, 5F172NQ44
, 5F172ZA02
