下向き印刷装置および方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：山本秀策 , 森下夏樹 , 飯田貴敏 , 石川大輔 , 山本健策
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-181257
公開番号（公開出願番号）：特開2017-006919
特許番号：特許第6194396号
出願日： 2016年09月16日
公開日（公表日）： 2017年01月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】膜形成装置であって、該膜形成装置は、基材を支持するように構成されるガスベアリングシステムであって、該ガスベアリングシステムは、該ガスベアリングシステムの頂面の中に形成される第1の複数のガス孔および第2の複数の真空孔を備える、ガスベアリングシステムと、該ガスベアリングシステムの該頂面の中に定置される印刷アレイであって、該印刷アレイは、該ガスベアリングシステムの該頂面の中に形成される該第1の複数のガス孔および該第2の複数の真空孔の間に定置され、該印刷アレイは、上向きで該基材に面する、印刷アレイと、該基材を運搬するように構成される基材設置システムであって、該基材設置システムは、リニアアクチュエータシステムに載置される基材ホルダを備える、基材設置システムとを備える、膜形成装置。

IPC (5件)：

B05C 13/02 ( 200 6.01) , B05C 5/02 ( 200 6.01) , B05D 1/26 ( 200 6.01) , B05D 3/00 ( 200 6.01) , B41J 2/01 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B05C 13/02 , B05C 5/02 , B05D 1/26 Z , B05D 3/00 C , B41J 2/01 305

引用特許：

出願人引用 (8件)

浮上式基板搬送処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-035350 出願人：東京エレクトロン株式会社
ウエブの無接触搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-168454 出願人：富士フイルムホールディングス株式会社
浮上搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-135978 出願人：株式会社渡辺商行

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