特許
J-GLOBAL ID：201103045922918527

塗布装置

発明者：
加藤 茂

加藤 茂 について

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楫間 淳生

楫間 淳生 について

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山本 夕記

山本 夕記 について

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谷本 恒夫

谷本 恒夫 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について

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タツモ株式会社

タツモ株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-240589
公開番号（公開出願番号）：特開2011-086875
出願日： 2009年10月19日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
【課題】片持ち状態で順次搬送される基板に対して良好に液状体を塗布可能な汎用性の高い、塗布装置を提供する。【解決手段】搬送面上にて基板Sを浮上させた状態で順次搬送する基板搬送系2と、基板Sに液状体を塗布する塗布系3とを備える塗布装置1である。基板搬送系2は、複数の基板Sをそれぞれ保持する複数の保持部60a,61aと、複数の保持部60a,61aのそれぞれを駆動する駆動部と、を備えている。そして、複数の保持部60a,61aは、それぞれ基板Sの搬送方向に沿う同じ側の側部を保持する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
搬送面上にて基板を浮上させた状態で順次搬送する基板搬送系と、前記基板に液状体を塗布する塗布系とを備える塗布装置であって、 前記基板搬送系は、複数の前記基板をそれぞれ保持する複数の保持部と、前記複数の保持部のそれぞれを駆動する駆動部と、を備え、 前記複数の保持部は、それぞれ前記基板の搬送方向に沿う同じ側の側部を保持することを特徴とする塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/677 ,  B05C 13/02 ,  B65G 49/06 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01L21/68 A ,  B05C13/02 ,  B65G49/06 A ,  H01L21/30 564Z
Fターム (38件)：
4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041CA02 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA25 ,  4F042DF10 ,  4F042DF15 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA13 ,  5F031GA24 ,  5F031GA26 ,  5F031GA35 ,  5F031GA38 ,  5F031GA42 ,  5F031GA46 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031GA63 ,  5F031HA02 ,  5F031HA10 ,  5F031KA02 ,  5F031KA03 ,  5F031KA15 ,  5F031LA08 ,  5F031MA13 ,  5F031MA26 ,  5F031PA02 ,  5F031PA14 ,  5F031PA16 ,  5F031PA18 ,  5F046JA27 ,  5F146JA27
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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